Jean HOERNI
1924 - 1997
Physicien suisse

La technologie Planar
1957-59

 

   
Après ses études en Suisse et en Angleterre Hoerni rejoint Shockley au Etats Unis en 1956 puis est entré chez Fairchild l'année suivante où il a mis au point la technologie planar  dés 1957, la technologie fut pleinement opérationnelle en 1959. La technique planar ( à plat) consiste à protéger le substrat d'une couche d'oxyde de silicium thermique (Si O2 silice) et ouvrir des fenêtres dans cet oxyde aux endroits devant recevoir le dopant par diffusion. Ainsi protégé de la pollution le composant au final donne de très bons résultats. Cette technologie remplaça rapidement toutes les autres dans le domaine des transistors bipolaires et la fabrication des autres types de transistors s'en inspirèrent. 

La technologie planar va permettre à Kilby et Noyce de poursuivre leur chemin dans la conception des circuits intégrés.

Numéro de la Fiche 110
Dernière mise à jour 09/02/2014